دانلود کتاب Silicon Devices and Process Integration: Deep Submicron and Nano-Scale Technologies (به فارسی: دستگاه‌های سیلیکونی و یکپارچه‌سازی فرآیند: زیر میکرون عمیق و فناوری‌های مقیاس نانو) نوشته شده توسط «Badih El-Kareh (auth.)»
اطلاعات کتاب دستگاه‌های سیلیکونی و یکپارچه‌سازی فرآیند: زیر میکرون عمیق و فناوری‌های مقیاس نانو
موضوع اصلی: فناوری نانو
نوع: کتاب الکترونیکی
ناشر: Springer US
نویسنده: Badih El-Kareh (auth.)
زبان: English
فرمت کتاب: pdf (قابل تبدیل به سایر فرمت ها)
سال انتشار: 2009
تعداد صفحه: 598
حجم کتاب: 17 مگابایت
کد کتاب: 0387367985 , 978-0-387-36798-9 , 978-0-387-69010-0
نوبت چاپ: 1
توضیحات کتاب دستگاه‌های سیلیکونی و یکپارچه‌سازی فرآیند: زیر میکرون عمیق و فناوری‌های مقیاس نانو
دستگاه‌های سیلیکون و یکپارچه‌سازی فرآیند از یادداشت‌های سخنرانی صنعتی و دانشگاهی گردآوری شده است و نشان‌دهنده سال‌ها تجربه در توسعه دستگاه‌های سیلیکونی است. این به طور خاص برای مهندسین و دانشمندان در تحقیق، توسعه و ساخت نیمه هادی ها تهیه شده است. همچنین برای دوره یک ترم مهندسی برق و علم مواد در مقطع فوق لیسانس یا کارشناسی ارشد مناسب است. این کتاب جنبه های نظری و عملی دستگاه های سیلیکونی مدرن و رابطه بین خواص الکتریکی و شرایط پردازش آنها را پوشش می دهد.
موضوعات تحت پوشش عبارتند از: ساختار MOS، استخراج پارامتر – اثرات کانال کوتاه و باریک – تحرک CMOS تکنیک‌های بهبود – دی‌الکتریک‌های گیت با K بالا، پشته‌های دروازه‌های پیشرفته – دی‌الکتریک‌های کم پتاسیم و اتصالات Cu – دستگاه‌های آنالوگ و اجزای غیرفعال – یکپارچه‌سازی فرآیند CMOS و BiCMOS – ساختارهای سلولی DRAM، SRAM و NVM.
کتاب دستگاه های سیلیکونی پیشرفته و فناوری های فرآیند یکپارچه را پوشش می دهد. این یک بحث جامع از دستگاه‌های سیلیکونی مدرن، ویژگی‌های آنها و تعامل با پارامترهای فرآیند را نشان می‌دهد.
Silicon Devices and Process Integration is compiled from industrial and academic lecture notes and reflects years of experience in the development of silicon devices. It is prepared specifically for engineers and scientists in semiconductor research, development and manufacturing. It is also suitable for a one-semester course in electrical engineering and materials science at the upper undergraduate or lower graduate level. The book covers both the theoretical and practical aspects of modern silicon devices and the relationship between their electrical properties and processing conditions.
Topics covered include: MOS structure, parameter extraction – Short and narrow-channel effects – CMOS mobility enhancement techniques – High-K gate dielectrics, advanced gate stacks – Low-K dielectrics and Cu interconnects – Analog devices and passive components – CMOS and BiCMOS process integration – DRAM, SRAM and NVM cell structures.
The book covers state-of-the-art silicon devices and integrated process technologies. It represents a comprehensive discussion of modern silicon devices, their characteristics, and interactions with process parameters.
دانلود کتاب «دستگاه‌های سیلیکونی و یکپارچه‌سازی فرآیند: زیر میکرون عمیق و فناوری‌های مقیاس نانو»
