کتاب الکترونیکی

کاشت یون و سنتز مواد

Ion Implantation and Synthesis of Materials

دانلود کتاب Ion Implantation and Synthesis of Materials (به فارسی: کاشت یون و سنتز مواد) نوشته شده توسط «Michael Nastasi – James W. Mayer»

اطلاعات کتاب کاشت یون و سنتز مواد

موضوع اصلی: مهندسی مکانیک

نوع: کتاب الکترونیکی

ناشر: Springer-Verlag

نویسنده: Michael Nastasi – James W. Mayer

زبان: English

فرمت کتاب: pdf (قابل تبدیل به سایر فرمت ها)

سال انتشار: 2006

تعداد صفحه: 273

حجم کتاب: 5 مگابایت

کد کتاب: 3540236740 , 9783540236740 , 9783540452980

نوبت چاپ: 1

توضیحات کتاب کاشت یون و سنتز مواد

کاشت یون یکی از مراحل کلیدی پردازش در فناوری مدارهای مجتمع سیلیکونی است. برخی از مدارهای مجتمع به 17 مرحله کاشت نیاز دارند و مدارها به ندرت با کمتر از 10 مرحله کاشت پردازش می شوند. دوپینگ کنترل شده در اعماق کنترل شده یکی از ویژگی های ضروری کاشت است. پردازش پرتو یونی همچنین می تواند برای بهبود مقاومت در برابر خوردگی، سخت شدن سطوح، کاهش سایش و به طور کلی بهبود خواص مواد استفاده شود. این کتاب فیزیک و علم مواد کاشت یون و اصلاح پرتو یونی مواد را ارائه می دهد. این فعل و انفعالات یون-جامد را پوشش می دهد که برای پیش بینی محدوده یونی، شکست یون و اختلال شبکه استفاده می شود. همچنین تشکیل پیوند کم عمق و برش سیلیکون با پرتوهای یون هیدروژن درمان می شود. موضوعات مهم برای اصلاح مواد، مانند اختلاط پرتو یونی، تنش ها، و کندوپاش نیز شرح داده شده است.

Ion implantation is one of the key processing steps in silicon integrated circuit technology. Some integrated circuits require up to 17 implantation steps and circuits are seldom processed with less than 10 implantation steps. Controlled doping at controlled depths is an essential feature of implantation. Ion beam processing can also be used to improve corrosion resistance, to harden surfaces, to reduce wear and, in general, to improve materials properties. This book presents the physics and materials science of ion implantation and ion beam modification of materials. It covers ion-solid interactions used to predict ion ranges, ion straggling and lattice disorder. Also treated are shallow-junction formation and slicing silicon with hydrogen ion beams. Topics important for materials modification, such as ion-beam mixing, stresses, and sputtering, are also described.

دانلود کتاب «کاشت یون و سنتز مواد»

مبلغی که بابت خرید کتاب می‌پردازیم به مراتب پایین‌تر از هزینه‌هایی است که در آینده بابت نخواندن آن خواهیم پرداخت.
برچسب ها
مبلغی که بابت خرید کتاب می‌پردازیم به مراتب پایین‌تر از هزینه‌هایی است که در آینده بابت نخواندن آن خواهیم پرداخت.
کتابخانه دیجیتال بَلیان