دانلود کتاب Handbook of Photomask Manufacturing Technology (به فارسی: کتابچه راهنمای فناوری ساخت ماسک عکس) نوشته شده توسط «Syed Rizvi»
اطلاعات کتاب کتابچه راهنمای فناوری ساخت ماسک عکس
موضوع اصلی: 1
نوع: کتاب الکترونیکی
ناشر: CRC Press
نویسنده: Syed Rizvi
زبان: English
فرمت کتاب: pdf (قابل تبدیل به سایر فرمت ها)
سال انتشار: 2005
تعداد صفحه: 878
حجم کتاب: 33 مگابایت
کد کتاب: 9780824753740 , 0824753747
نوبت چاپ: 1
توضیحات کتاب کتابچه راهنمای فناوری ساخت ماسک عکس
از آنجایی که صنعت نیمه‌رسانا تلاش می‌کند تا تعداد عملکردهایی را که در کوچک‌ترین فضای یک تراشه قرار می‌گیرند افزایش دهد، همگام شدن با این خواسته‌ها برای فناوری‌های جدید اهمیت فزاینده‌ای پیدا می‌کند. فناوری Photomask یکی از زمینه های کلیدی برای دستیابی به این هدف است. اگرچه مرور مختصری از فناوری ماسک نوری در ادبیات وجود دارد، کتاب راهنمای فناوری ساخت ماسک نوری اولین درمان عمیق و جامع فناوری‌های موجود و نوظهور ماسک‌های نوری موجود است.
هندبوک فناوری ساخت ماسک نوری شامل مشارکت‌های 40 نویسنده برجسته بین‌المللی از صنعت، دانشگاه، دولت، آزمایشگاه‌های ملی و کنسرسیوم است. این نویسندگان درباره ماسک‌های معمولی و فن‌آوری‌های پشتیبان آن‌ها و همچنین نسل بعدی فناوری‌های غیر نوری مانند فرابنفش شدید، طرح‌تابی الکترون، طرح یونی و لیتوگرافی اشعه ایکس بحث می‌کنند. کتاب با مروری بر تاریخچه توسعه ماسک عکس آغاز می شود. سپس مراحل مربوط به طراحی، تولید، آزمایش، بازرسی و تعمیر ماسک های عکس را با دنبال کردن توالی مشاهده شده در تولید واقعی نشان می دهد. متن همچنین شامل بخش هایی در مورد مواد مورد استفاده و همچنین مدل سازی و شبیه سازی است.
اصلاحات مستمر در فرآیند ساخت ماسک نوری، عصر طول موج فرعی در نانولیتوگرافی را آغاز کرده است. این کتابچه راهنمای ارزشمند این اصلاحات را ترکیب می‌کند و ابزارها و امکانات لازم برای دستیابی به نسل بعدی فناوری‌های میکروساخت را فراهم می‌کند. ——ویژگی ها——————— · نمای چند بعدی از فناوری ماسک عکس ارائه می دهد · نمای کلی و بحث های مفصل و عمیق را ارائه می دهد فناوری ماسک نوری · ایجاد تخصص در طراحی و پردازش برای بهینه‌سازی محدودیت‌های ماسک عکس بدون به خطر انداختن عملکرد و مشخصات تراشه · بحث در مورد نوشتن ماسک، ارائه درمان دقیق از نویسندگان پرتو الکترونی و نویسندگان لیزر · شامل یک گام کامل از فرآیند توسعه از مفهوم تا نهایی است. آزمایش، از جمله مدل سازی و شبیه سازی
The Handbook of Photomask Manufacturing Technology features contributions from 40 internationally prominent authors from industry, academia, government, national labs, and consortia. These authors discuss conventional masks and their supporting technologies, as well as next-generation, non-optical technologies such as extreme ultraviolet, electron projection, ion projection, and x-ray lithography. The book begins with an overview of the history of photomask development. It then demonstrates the steps involved in designing, producing, testing, inspecting, and repairing photomasks, following the sequences observed in actual production. The text also includes sections on materials used as well as modeling and simulation.
Continued refinements in the photomask-making process have ushered in the sub-wavelength era in nanolithography. This invaluable handbook synthesizes these refinements and provides the tools and possibilities necessary to reach the next generation of microfabrication technologies. ——Features——————— · Provides a multi-dimensional view of photomask technology · Offers a general overview and detailed, in-depth discussions of photomask technology · Builds expertise on design and processing to optimize photomask constraints without sacrificing functionality and specs of the chip · Discusses mask writing, providing detailed treatment of electron beam writers and laser writers · Contains a complete walkthrough of the development process from conception to final testing, including modeling and simulation
دانلود کتاب «کتابچه راهنمای فناوری ساخت ماسک عکس»
برای دریافت کد تخفیف ۲۰ درصدی این کتاب، ابتدا صفحه اینستاگرام کازرون آنلاین (@kazerun.online ) را دنبال کنید. سپس، کلمه «بلیان» را در دایرکت ارسال کنید تا کد تخفیف به شما ارسال شود.