دانلود کتاب Advanced Nanoscale ULSI Interconnects: Fundamentals and Applications (به فارسی: اتصالات ULSI پیشرفته در مقیاس نانو: مبانی و کاربردها) نوشته شده توسط «Y. Shacham-Diamand (auth.) – Yosi Shacham-Diamand – Tetsuya Osaka – Madhav Datta – Takayuki Ohba (eds.)»
اطلاعات کتاب اتصالات ULSI پیشرفته در مقیاس نانو: مبانی و کاربردها
موضوع اصلی: ابزار
نوع: کتاب الکترونیکی
ناشر: Springer-Verlag New York
نویسنده: Y. Shacham-Diamand (auth.) – Yosi Shacham-Diamand – Tetsuya Osaka – Madhav Datta – Takayuki Ohba (eds.)
زبان: English
فرمت کتاب: pdf (قابل تبدیل به سایر فرمت ها)
سال انتشار: 2009
تعداد صفحه: 552
حجم کتاب: 24 مگابایت
کد کتاب: 0387958673 , 9780387958675 , 9780387958682
نوبت چاپ: 1
توضیحات کتاب اتصالات ULSI پیشرفته در مقیاس نانو: مبانی و کاربردها
اتصالات پیشرفته ULSI در مقیاس نانو: اصول و کاربردها شرح جامعی از فناوری اتصال مبتنی بر مس برای فناوری ادغام مقیاس بزرگ (ULSI) به برنامه مدار مجتمع (ICs) ارائه می دهد. این کتاب به بررسی فن‌آوری‌های اساسی مورد استفاده امروزه برای متالیزاسیون مس در کاربردهای ULSI می‌پردازد: رسوب‌گذاری و مسطح‌سازی. این مواد به کار رفته، خواص آنها و نحوه ادغام همه آنها، به ویژه در رابطه با فرآیندهای ادغام مس و فرآیندهای الکتروشیمیایی در رژیم مقیاس نانو را توصیف می کند. این کتاب همچنین فناوری‌های جدید در مقیاس نانو را ارائه می‌کند که الکترونیک مدرن در مقیاس نانو را به سیستم‌های مبتنی بر مقیاس نانو در آینده پیوند می‌دهد. این حجم متنوع و چند رشته ای برای مهندسان فرآیند در صنعت میکروالکترونیک جذاب خواهد بود. دانشگاه هایی با برنامه های طراحی ULSI، میکروالکترونیک، MEMS و نانوالکترونیک؛ و متخصصان صنعت الکتروشیمیایی که با فروشندگان مواد، آبکاری و ابزار کار می کنند.
Advanced Nanoscale ULSI Interconnects: Fundamental and Applications brings a comprehensive description of copper based interconnect technology for Ultra Large Scale Integration (ULSI) technology to Integrated Circuit (ICs) application. This book reviews the basic technologies used today for the copper metallization of ULSI applications: deposition and planarization. It describes the materials used, their properties, and the way they are all integrated, specifically in regard to the copper integration processes and electrochemical processes in the nanoscale regime. The book also presents various novel nanoscale technologies that will link modern nanoscale electronics to future nanoscale based systems. This diverse, multidisciplinary volume will appeal to process engineers in the microelectronics industry; universities with programs in ULSI design, microelectronics, MEMS and nanoelectronics; and professionals in the electrochemical industry working with materials, plating and tool vendors.
دانلود کتاب «اتصالات ULSI پیشرفته در مقیاس نانو: مبانی و کاربردها»
