Оборудование для создания и исследования свойств объектов наноэлектроники

Томск: Томский государственный университет систем управления и радиоэлектроники, Эль Контент, 2011. — 96 c. Освещаются следующие разделы в области создания и исследования объектов наноэлектроники: нанолитография, оптическая литография, УФ-, КУФ-, ЭУФ- диапазоны, литография сканирующими электронными и ионными пучками, оборудование для получения остросфокусированных пучков электронов и ионов, наноимпринтинговая литография, технология наноразмерных структур и методы исследования с помощью сканирующей зондовой микроскопии (СЗМ), оборудование и методики применения СЗМ для технологических целей, технологии изготовления наноструктур с помощью сфокусированного ионного пучка (FIB-технология), технология наноструктурирования, самоформирующиеся 3D-наноструктуры для приборов наноэлектроники и наномеханики. Для слушателей программы переподготовки в области промышленного производства наногетероструктурных монолитных интегральных схем СВЧ- диапазона и дискретных полупроводниковых приборов