Физико-химические методы обработки поверхности полупроводников

М.: Радио и связь, 1982. — 137 с. Изложены основы различных химических и физико-химических методов обработки поверхности полупроводников. Описаны методы химико-механического, химико-динамического, электрохимического, фотохимического, фотоэлектрохимического и плазмохимического травления и полирования монокристаллических подложек из кремния, германия и соединений A III B V , а также химические и электрохимические методики локального травления полупроводников, препарирования кристаллов и эпитаксиальных структур. Систематизированы методы межоперационной и финишной очистки полупроводников от различных загрязнений. Для инженеров-технологов, занимающихся разработкой и производством полупроводниковых микроприборов и интегральных микросхем.